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熱処理装置

 

独自のノウハウにより、熱処理に欠かせない安定した温度管理を実現しました。
最近注目のワイドギャップ半導体(GaN、等)向け熱処理装置もご好評頂いております。

 

オーミックアロイ装置

 

OS-55000N・シリーズ(高温タイプ)

ワイドギャップ半導体(GaNSiCなど)のオーミック電極アロイ、アニールに好適

 

 

OS-45000N・シリーズ(中温タイプ)

各種のアロイ、アニールなどに好適

 

 

OS-35000N・シリーズ(低温タイプ)

汎用化合物半導体(GaAs系、InP系)のオーミック電極アロイ、アニールなどに好適

 

バッチ式アニール装置

 

CA-5200

化合物半導体に特化した多目的バッチ式アニール装置です。
基板温度は700℃まで対応可能で、3インチ基板14枚まで装着可能です。
また、処理室の移動機構を装備しており、加熱〜冷却までの間、処理室は密閉状態のまま行えます。
真空置換機構も装備しておりますので、固相拡散にもお使いいただけます。

 

縦型拡散装置

 

OD-2500

従来閉管内で行なわれていた亜鉛拡散プロセスを開管方式で行うため、閉管方式と同等の性能を持ちながらも安全性・操作性が格段に向上しております。

  

                                         

 

空白

 

オーミックアロイ装置

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

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