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成膜装置


レーザーCVD装置を中心とする薄膜形成システムは、幅広い分野からのご要望にお応えしております。
また高真空技術を活かした各種の蒸着・スパッタ装置も承っております。

レーザーアブレッシブCVD装置

S-210
Al2O3やPZTなどの多相セラミック類をレーザーの光エネルギー照射により、成分組成比の崩れを最小限に抑えた連続成膜を可能にしました。

ダイヤモンド成膜装置

DC-1020
ダイヤモンド成膜のファクターとなるプラズマ密度と温度管理を最適化させる為に、ワーク冷却機構やプラズマに対するワーク位置調整機構など、様々な工夫が盛り込まれております。

ALD装置

AL-8000

独自の原料ガスフローの切り替え機構を採用し、枚葉からバッチ処理までも可能とした原子層堆積装置です。装置構成をクラスター型とする事で、処理時間の長くなりがちなプロセスにも、ハイスループットで対応可能です。

【特別受注生産品です。詳細はお問合せ下さい】


電子ビーム蒸着装置

HV-500
超高真空にて素材の酸化を抑えた電子ビーム蒸着を 可能にしました。基板はロードロック室を通じて高真空を破ることなく供給され、連続使用を容易としてお ります。
 
空白
オーミックアロイ装置
矢印 オーミックアロイ装置
矢印 バッチ式アニール装置
矢印 縦型拡散装置
汚染抽出装置
枚葉式両面洗浄装置
枚葉式リフトオフ装置
RCAウェット-光複合洗浄装置

レーザーアブレッシブCVD装置
ダイヤモンド成膜装置
ALD装置
電子ビーム蒸着装置

全自動エッチング装置
多機能エッチング装置
化合物半導体用ドライエッチング装置
マルチ電極ドライエッチング装置

無電極高出力UV光照射装置
卓上型Deep UV光表面改質装置
UV光アッシング装置
ハードディスク表面改質装置

KOH異方性エッチング装置
マイクロマシン用陽極接合装置
電解めっき処理装置

空気イオンカウンタ
液中パーティクルカウンタ

マイクロチップ電気泳動装置
Chibi-MS(小型飛行時間型質量分析装置)

小型高電圧電源
多目的エッチング・アッシング装置
バックサイドエッチング装置
MEMS用常圧プラズマ装置

 
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